試料作成関連装置
超高圧高温発生装置
当研究室では，キュービックアンビル型高温高圧発生装置(1000tプレス)を保有しています．6万気圧までの高圧，1500℃以上の高温の環境を作り出すことができ，これを利用して新規物質の開発を行っています．この装置の特徴は，①立方体型試料の6方向からほぼ均等に圧力を加えることができる点，②上下1軸方向の加圧に連動して，横にある4つの加圧部分も動く点にあります．ヒーターはグラファイトを利用し，上下方向に電流を流して加熱します．
写真1．キュービックアンビル型高温高圧発生装置
RFマグネトロンスパッタ装置
当研究室では，2台のRFマグネトロンスパッタ装置を利用して(Cu，C)系超伝導体薄膜の作製を行っています．スパッタ装置は，MBEやレーザーアブレーションに比べて簡便に扱うことができ，大面積化を図ることも比較的容易です．工業的にもよく利用される装置です．
写真2．RFマグネトロンスパッタ装置
PLD(Pulse Laser Deposition)装置
YAGレーザーの4倍波(波長：266 nm)を用いた成膜が可能です．(Cu，C)系超伝導体薄膜やタングステンブロンズの薄膜作製に利用しています．
写真3．PLD装置
真空グローブボックス
非常に水分に弱い原料を扱う際に利用します．原料の良し悪しは作製される試料の質に大きく影響するため，研究に欠かせない重要な装置です．
電気炉（マッフル炉＋管状炉）
試料評価装置
超高圧低温物性評価装置(キュービックアンビル型，250tプレス)
物理特性測定システム PPMS (カンタム・デザイン社)
X線回折装置 (Rigaku ULTIMA Ⅲ)
共同利用設備
X線回折装置 (Rigaku SmartLab，共通機器センター内)